دانلود کتاب Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications
رسوب بخار شیمیایی سیلیسیدهای تنگستن و تنگستن برای کاربردهای VLSI / ULSI
زبان : English
نویسندگان : John E.J. Schmitz
ناشر : William Andrew
سال انتشار : 1993
ISBN (شابک) : 0815512880, 9780815512882, 9780815516408
ویرایش : [2009 ed.]
سری : Materials Science and Process Technology Series
تعداد صفحات : 251[253]
حجم : 12 مگابایت
فرمت کتاب : pdf
قیمت : 36000 تومان